氧含量测定的前提是要求空白低且稳定。 氧空白值主要是由石墨坩埚、 助熔剂、 载气以及炉膛空白等引起的。在4.
5kw 的分析功率下， 使用高纯免洗镍囊进行测定。 实验结果表明， 氧空白值是 0. 0030% ， 标准偏差为 0. 000 1% 。 以空白标准偏差的 3 倍计算出氧的检出限为 0. 000 3% ， 以空白标准偏差的 10 倍计算出氧的测定下限为 0. 001% 。
氮化硅，是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体；高温时。而且它还能抵抗冷热冲击，在空气中加热到1000℃以上，急剧冷却再急剧加热，也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此优异的特性，人们常常利用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、性模具等机械构件。如果用耐高温而且不易传热的氮化硅陶瓷来制造发动机部件的受热面，不仅可以提高柴油机，节省燃料，而且能够提高热效率。
采用氮化硅纯物质为参考物质，使用纳克onh-3000固有的操作软件中的线性拟合程序可以建立氧、氮元素的工作曲线，通过分析氮化硅中的氧和氮，获得了---的重复性和再现性。
有---仔细监控铜制品的生产流程，氧氮仪报价，以使产品符合要求，避免报废。因此需要准确的测定从原材料到成品的生产过程中氧以及氢的含量。纳克onh配有两个独立的红外吸收池，可准确测定原材料中的高氧含量和无氧铜中的低氧含量，其低运维成本支持不断增长的分析需求。
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